富士工業(yè)超聲波液體濃度計(jì)  FUD-1 Model-13 CMP用/汎用薬液用產(chǎn)品介紹：

超聲波液體濃度計(jì)單成分用

半導(dǎo)體制造用

FUD-1Model-13

測量原理

超聲波在液體中非常易于傳播

超聲波在溶液中傳播的速度受溶液的濃度和溫度影響

「濃度變化」→「密度變化」→「音速變化」

本產(chǎn)品利用超聲波的特性，高精度的測量溶液的濃度

測量「溶液的溫度」+「超聲波的速度」→通過CPU演算處理→濃度顯示

可根據(jù)檢量線的交換測量各種半導(dǎo)體藥液的濃度

發(fā)信器小型、輕量，可直接在線裝置

免保養(yǎng)設(shè)計(jì)

接液部分全部采用（PFA)材料

小型輸出設(shè)計(jì)，對藥液沒有影響

單成分濃度計(jì)的特點(diǎn)

實(shí)時濃度測量可能，濃度管理系統(tǒng)構(gòu)筑簡單

模擬DC4～20mA及數(shù)字RS232C標(biāo)準(zhǔn)輸出

標(biāo)配測量錯誤輸出和警報輸出

標(biāo)配自我診斷功能·錯誤信息提示

小型·輕量小型發(fā)信器在線直接設(shè)置可能

采用PFA的接液構(gòu)件、小輸出設(shè)計(jì)對藥液沒有影響

優(yōu)點(diǎn)

高精度連續(xù)計(jì)測可能

無需定期調(diào)整、校對，無需維護(hù)

設(shè)置時的各種調(diào)整等不需要也容易設(shè)置

由于實(shí)時輸出反饋也容易

用途

在CMP工序中的CMP襯墊或氧化劑濃度管理等

稀釋工程的各種藥液濃度管理等（H2O2?TMAH?HNO3?H2SO4?HCl等）

在清洗過程中的清洗液濃度管理等（HF?NH4OH?KOH?IPA等）

蝕刻工序中的蝕刻液濃度管理等（HF?H2SO4等）

富士工業(yè)超聲波液體濃度計(jì)  FUD-1 Model-13 CMP用/汎用薬液用參數(shù)：